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Effect of deep-acceptor density in buffer layer on breakdown voltage of AIGaN/GaN HEMTs with high-k passivation layer
S. Ueda, Y. Kawada, Kazushige Horio
電子情報システム学科
電気電子情報工学専攻
機能制御システム専攻
研究成果
:
Conference contribution
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Effect of deep-acceptor density in buffer layer on breakdown voltage of AIGaN/GaN HEMTs with high-k passivation layer」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Impact ionization
88%
Buffer layers
80%
Passivation
68%
High electron mobility transistors
65%
Electric breakdown
63%
Leakage currents
30%
Permittivity
28%
Electric fields
26%
Numerical analysis
24%
Chemical Compounds
Impact Ionization
100%
Breakdown Voltage
84%
Chemical Passivation
57%
Leakage Current
37%
Buffer Solution
36%
Dielectric Constant
25%
Electric Field
25%