K. Kita, M. Sasagawa, K. Tomida, M. Toyama, K. Kyuno, A. Torium
研究成果: Article › 査読
}
TY - JOUR
T1 - Further EOT Scaling of Ge/HfO2 over Si/HfO2 MOS Systems
AU - Kita, K.
AU - Sasagawa, M.
AU - Tomida, K.
AU - Toyama, M.
AU - Kyuno, K.
AU - Torium, A.
PY - 2003/11/1
Y1 - 2003/11/1
M3 - Article
JO - International Workshop on Gate Insulator (IWGI2003)
JF - International Workshop on Gate Insulator (IWGI2003)
ER -