| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 155-163 |
| ジャーナル | J. Ceramic Transaction. |
| 巻 | 148 (2004) |
| 出版ステータス | Published - 2003 6月 1 |
N-implanted Ti thin film prepared by ion beam sputtering deposition.
S. Muraishi, T. Aizawa
研究成果: Article › 査読
S. Muraishi, T. Aizawa
研究成果: Article › 査読
| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 155-163 |
| ジャーナル | J. Ceramic Transaction. |
| 巻 | 148 (2004) |
| 出版ステータス | Published - 2003 6月 1 |