Optimization of MoCl5 intercalation for low-resistance and low-damage exfoliated highly-oriented pyrolytic graphite

Ekkaphop Ketsombun, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Optimization of MoCl5 intercalation for low-resistance and low-damage exfoliated highly-oriented pyrolytic graphite」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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