| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 17-24 |
| ジャーナル | Memoirs of Faculty of Engineering |
| 出版ステータス | Published - 1996 1月 1 |
Plasma-induced damage of silicon thermal oxides in the VLSI process
H. Nishikawa, E. Watanabe, D. Ito, F. Tochikubo
研究成果: Article › 査読
H. Nishikawa, E. Watanabe, D. Ito, F. Tochikubo
研究成果: Article › 査読
| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 17-24 |
| ジャーナル | Memoirs of Faculty of Engineering |
| 出版ステータス | Published - 1996 1月 1 |