Structural and electrical properties of HfLaOx films for an amorphous high-k gate insulator

Y. Yamamoto, K. Kita, K. Kyuno, A. Toriumi

研究成果: Article › 査読

147 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Structural and electrical properties of HfLaOx films for an amorphous high-k gate insulator」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy