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Submicrometer lithography by near-field optical microscopy
Saulius Juodkazis, Y. Arisawa,
S. Matsuo
, H. Misawa, R. Tomasiunas, J. Vaitkus
研究成果
:
Article
›
査読
1
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Submicrometer lithography by near-field optical microscopy」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Mathematics
Lithography
100%
Microscopy
86%
Resist
81%
Near-field
76%
Illumination
47%
Femtosecond
22%
Fiber
20%
Spatial Resolution
18%
Surface Roughness
17%
Fabrication
16%
Aspect Ratio
14%
Thin Films
14%
High Resolution
14%
Wavelength
13%
Repetition
13%
Dose
12%
Optimization
8%
Line
7%
Standards
6%
Engineering & Materials Science
Near field scanning optical microscopy
76%
Optical microscopy
64%
Lithography
64%
Lighting
47%
Fibers
26%
Thin films
18%
Aspect ratio
18%
Wavelength
17%
Surface roughness
16%
Fabrication
14%
Physics & Astronomy
near fields
50%
lithography
49%
microscopy
41%
illumination
33%
fibers
16%
high aspect ratio
15%
repetition
12%
surface roughness
12%
spatial resolution
11%
dosage
9%
optimization
9%
high resolution
8%
fabrication
8%
thin films
7%
pulses
7%
wavelengths
6%
Chemical Compounds
Illumination
52%
Optical Microscopy
52%
Fiber
25%
Surface Roughness
19%
Dose
15%
Wavelength
13%
Length
11%
Liquid Film
9%
Surface
6%