本文言語 | English |
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ページ(範囲) | 401 |
ジャーナル | Default journal |
出版ステータス | Published - 2004 6月 1 |
The effect of the accelerating voltage in the size of deposit in electron-beam-induced deposition
K. Mitsuishi, Z. Q. Liu, M. Shimojo, M. Tanaka., K. Furuya
研究成果: Article › 査読