What is the essence of vFB shifts in high-k gate stack?

Toshihide Nabatame, Kunihiko Iwamoto, Koji Akiyama, Yu Nunoshige, Hiroyuki Ota, Tomoji Ohishi, Akira Toriumi

研究成果: Conference contribution

14 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「What is the essence of vFB shifts in high-k gate stack?」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science